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商品の詳細:
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| 大気: | 窒素/水素/アセチレン | 熱帯の寸法: | Φ660×300mm (D*H) |
|---|---|---|---|
| 熱対タイプ: | B について | 熱量: | ≤6°C/分 |
| 温度制御の安定性: | ±1ºC | 動作温度: | 750°C |
| 最大温度: | 1000°C | ||
| ハイライト: | 化学蒸気堆積炉,タンク型化学気相成長（CVD）炉,Hwf6630-10 化学気相成長（CVD）炉 |
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| 属性 | 価値 |
|---|---|
| 雰囲気 | 窒素/水素/アセチレン |
| 加熱ゾーンの寸法 | φ660×300mm（d*h） |
| 熱電対タイプ | b |
| 加熱速度 | ≤6ºC/min |
| 温度制御の安定性 | ±1ºC |
| 動作温度 | 750°C |
| 最高温度 | 1000°C |
HWF6630-10タンク蒸気堆積炉は、電子製品の中程度の温度熱処理用に設計されています。窒素、アセチレン、および水素雰囲気の蒸気相反応プロセスを実行し、保護雰囲気の下での焼結プロセスにも使用できます。リアルタイムのコンピューター監視システムを備えたこの炉は、研究環境での材料プロセステストに最適です。
| アイテム | 注記 | 量 |
|---|---|---|
| 基本コンポーネント | 炉 | 1ユニット |
| 検査証明書 | 主要なアウトソーシングコンポーネントの証明書 | 1セット |
| 制御キャビネット | 1ユニット | |
| 技術文書 | 指示、技術文書 | 1セット |
| 温度制御モジュール | ヤマタケまたは同様の輸入ブランド | 1セット |
| タッチスクリーン | 10インチ | 1セット |
| 質量流量計 | 窒素200L/min、その他50L/min | 3個のPC |
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