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研究室 高温真空マフル炉 窒素 水素大気

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研究室 高温真空マフル炉 窒素 水素大気

Lab High Temperature Vacuum Muffle Furnace For Nitrogen Hydrogen Atmosphere
Lab High Temperature Vacuum Muffle Furnace For Nitrogen Hydrogen Atmosphere
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大画像 :  研究室 高温真空マフル炉 窒素 水素大気

商品の詳細:
Place of Origin: China
ブランド名: Chitherm
Model Number: HWF160-10NH
お支払配送条件:
Minimum Order Quantity: 1
価格: negotiable
Packaging Details: Customized
Delivery Time: Customized
Payment Terms: Customized
Supply Ability: Customized

研究室 高温真空マフル炉 窒素 水素大気

説明
Range of Applications: Industrial Type: Electric Holding Furnace
Usage: Ceramic Sintering Fuel: Electric
Atmosphere: Vacuum/Nitrogen/Hydrogen Effective Chamber Dimensions: 500*500*650mm(W*H*D)
Transport Package: Wooden Packaging Specification: 1650*1950*2000mm(W*H*D)
Trademark: Chitherm Origin: China
HS Code: 8514101000 Supply Ability: 50 Sets/Year
Customization: Available 証明: ISO
Place Style: Vertical
ハイライト:

実験室 真空マッフルオーブン

,

窒素水素真空マフル炉

,

大気高温実験炉

1650*1950*2000mm W*H*D サイズで窒素と水素の空気のためのHwf160-10nh真空大気タンクオーブン
 
1機器の名前とモデル:
HWF160-10NH 真空大気タンク炉

2技術指標と基本構成
2.1 定温: 900°C
2.2 最大温度: 1000°C
2.3 タンクの材料:SUS310S
2.4 タンクの寸法: Φ750×900mm (d×D);
2.5 実効的なサイズ: 500×500×650mm (W×H×D);
2.6 材料の積載方法:不?? 鋼のサガー,合計7層,各層に2つのサガー,合計14つのサガー
2.7 冷却方法:自然冷却
2.8 熱装置:FECセラミックファイバーヒーター
2.9 温度制御 安定性: ±1°C,PIDパラメータの自動調整機能を有する.
2.10 温度均一性: ±5°C (空の炉で1時間,恒温900°Cで試験) 検知ポートを指定する.
2.11 温度制御熱対:Kグレード
2.12 温度制御点数:3ポイント
2.13 温度測定点数: 1ポイント
2.14 温度制御セグメント数: 標準は9セグメント
2.15 シンタリング大気:窒素,水素,または窒素と水素の混合物.
2.16 酸素含有量検出: 低気圧下で使用できる酸素含有量分析器を装備する.
2.17 廃棄ガス処理: 放出された水素は,点火装置を通過する際に点火する.
2.18 警報及び保護: 超温,熱電池破裂,低気圧,低水圧,点火,モーター下相および逆相に対する音声および光警報保護.不合格の真空度超温アラームの電源オフ保護機能がある
2.19 設計電源: 40kW
2.20 空炉の典型的な保熱力: ≤25kW
2.21 熱速: ≤5°C/分
2.22 表面温度上昇: <35°C
2.23 極限真空度: 10Pa
2.24 装備重量: 約1500kg
2.25 装備の色: 淡い灰色
2.26 参照 外見の寸法: 1650×1950×2000mm (W×H×D),具体寸法は実際の製品によって決定される.

3一般的な技術説明
Hwf160-10nh Vacuum Atmosphere Tank Furnace
図 1 装置構造の図面
 
 
3配達リスト
表 1 配送リスト
  ポイント 注記 QTYは
基本成分 オーブン   1 SET
検査証明書 主要な外包された部品の証明書 1 SET
技術文書 主要なアウトソーシングされた部品の説明書,技術文書など 1 SET
主要な要素 熱装置 FEC セラミックファイバーヒーター 1 SET
バキュームシステム   1 SET
タッチスクリーン   1 SET
温度コントローラ アズビル 1 SET
熱対 タイプK 1 PCS
PLC   1 SET
パーツ SSR   1 PC


4.設備の必要性エント
  1. 環境条件: temp.0~40oC,湿度 ≤ 80%RH 腐食性ガスや大気流動障害がない
  2. N2条件:99純度999%作業圧:0.2-0.4MPaマックスガス消費2から6までm3/h /h /h /h /h
  3. H2条件:作業圧:0.2-0.4MPaマックスガス消費1〜3m3/h.
  4. 水の条件:清潔で腐食性のない水,作業圧 0.1-0.3MPa,3〜9L/min
  5. 換気システム:使用者のポンプシステムへの非接触アクセス,ポンプ容量は15以上m3/h
  6. 地面要求:水平,明らかな振動なし,負荷負荷> 500kg/m2;
  7. 電源状態 (TBD): 容量 > 55kVA,3相5線,電圧220V/380V,周波数50Hz 火線:黄色,緑,赤,ゼロ線:青,地面線:黄色緑
  8. 設置場所: 3000mm ×2500mm ×3000mm ((D×W×H), 設置面積が7.5m2.
Hwf160-10nh Vacuum Atmosphere Tank FurnaceHwf160-10nh Vacuum Atmosphere Tank Furnace
Hwf160-10nh Vacuum Atmosphere Tank Furnace

連絡先の詳細
Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd

コンタクトパーソン: zang

電話番号: 18010872860

ファックス: 86-0551-62576378

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